磁控濺射儀的測(cè)量原理主要基于濺射效應(yīng)和磁性控制，通過(guò)高能粒子轟擊靶材表面，使靶材原子被濺射并沉積到基底上。
1.濺射效應(yīng)：
在真空腔體內(nèi)，通過(guò)施加高電壓（直流或射頻）在靶材（陰極）和基底（陽(yáng)極）之間形成電場(chǎng)。
氣體（如氬氣）在電場(chǎng)作用下電離，產(chǎn)生等離子體（包括正離子和自由電子）。
正離子在電場(chǎng)加速下轟擊靶材表面，將靶材原子或分子濺射出來(lái)，沉積到基底表面形成薄膜。
2.磁控作用：
在靶材后方加入磁場(chǎng)（通常為永磁體或電磁線(xiàn)圈），使電子在電場(chǎng)和磁場(chǎng)的共同作用下做螺旋運(yùn)動(dòng)。
磁場(chǎng)限制了電子的運(yùn)動(dòng)軌跡，延長(zhǎng)了電子與氣體分子的碰撞時(shí)間，從而提高了氣體電離率和濺射效率。
這種設(shè)計(jì)減少了電子對(duì)基底的直接轟擊，降低了基底溫升，同時(shí)提高了沉積速率。
二、磁控濺射儀的測(cè)量原理涉及對(duì)以下參數(shù)的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和控制：
1. 靶材濺射速率
原理：
通過(guò)測(cè)量濺射過(guò)程中靶材的質(zhì)量損失或沉積薄膜的厚度，計(jì)算濺射速率。
常用的方法包括：
石英晶體微天平（QCM）：利用石英晶體的頻率變化測(cè)量沉積速率。
光學(xué)測(cè)厚儀：通過(guò)反射光或透射光的干涉現(xiàn)象測(cè)量薄膜厚度。
應(yīng)用：
優(yōu)化濺射功率、氣體流量和基底溫度等參數(shù)，以實(shí)現(xiàn)均勻且可控的薄膜生長(zhǎng)。
2. 等離子體特性
原理：
通過(guò)檢測(cè)等離子體的密度、電子溫度和離子能量，評(píng)估濺射過(guò)程的穩(wěn)定性。
常用工具包括：
朗繆爾探針：測(cè)量等離子體密度和電子溫度。
光譜儀：分析等離子體發(fā)光光譜，獲取離子和電子的能量分布。
應(yīng)用：
調(diào)節(jié)磁場(chǎng)強(qiáng)度、氣壓和放電電流，維持穩(wěn)定的等離子體環(huán)境。
3. 薄膜成分與結(jié)構(gòu)
原理：
利用表面分析技術(shù)對(duì)沉積薄膜的成分、結(jié)構(gòu)和形貌進(jìn)行表征。
常用方法包括：
X射線(xiàn)衍射（XRD）：分析薄膜的晶體結(jié)構(gòu)。
掃描電子顯微鏡（SEM）：觀(guān)察薄膜表面形貌和顆粒尺寸。
能譜分析（EDS）：測(cè)定薄膜的元素組成。
應(yīng)用：
根據(jù)測(cè)量結(jié)果調(diào)整靶材成分、濺射功率和基底溫度，優(yōu)化薄膜性能。
4. 基底溫度與應(yīng)力
原理：
在濺射過(guò)程中，基底溫度會(huì)影響薄膜的結(jié)晶性和附著力。
通過(guò)紅外測(cè)溫儀或熱電偶實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)基底溫度，并通過(guò)應(yīng)力測(cè)試儀（如激光曲率法）測(cè)量薄膜應(yīng)力。
應(yīng)用：
控制冷卻系統(tǒng)或加熱裝置，減少薄膜與基底之間的熱失配應(yīng)力。
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